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我們大部分人都知道等離子有清洗活化的功能，今天我們來探討下等離子去膠機(jī)。等離子去膠機(jī)反應(yīng)機(jī)理：在干法等離子去膠技術(shù)中，氧是首要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機(jī)反響室中受高頻及微波能量效果，電離發(fā)生氧離子、游離態(tài)氧原子O*、氧分子和電子等混合的等離子體.等離子去膠操作方法：將待去膠片插入石英舟并平行氣流方向，推入真空室兩電極間，抽真空到1.3Pa，通入恰當(dāng)氧氣，堅(jiān)持真空室壓力在1.3-13Pa，加高頻功率，在電極間發(fā)生淡紫色輝光放電，經(jīng)過調(diào)理功率、流量等技術(shù)參數(shù)，可得不一樣去膠速...

微波等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污潮物、油污或油脂。今天，我們來看看微波等離子清洗機(jī)操作注意事項(xiàng)與應(yīng)用吧。1、正確設(shè)置等離子設(shè)備的運(yùn)行參數(shù)，按時(shí)設(shè)備使用說明書來執(zhí)行。2、保護(hù)好等離子體的點(diǎn)火裝置，以確保等離子清洗機(jī)可以正常的啟動(dòng)。3、等離子設(shè)備在啟動(dòng)前的準(zhǔn)備工作，要對(duì)相關(guān)的人員進(jìn)行培訓(xùn)，按照要求嚴(yán)格執(zhí)行各項(xiàng)操作...

我們的優(yōu)勢｜NRE-4000型RIE-HCP系統(tǒng)NANO-MASTERNRE-4000型RIE-HCP系統(tǒng)，用于高速刻蝕硅、SiO2和Si3N4基片，通過配套HCP高密度中空陰極等離子源，系統(tǒng)可以支持RIE和RIE-HCP應(yīng)用，提供廣泛的應(yīng)用。眾多的優(yōu)勢配置，使得NRE-4000型系統(tǒng)具有許多優(yōu)勢：?超高的薄膜均勻性?良好的粘附力?超凈的沉積（高真空支持）?出色的工藝控制?高度的可重復(fù)性（計(jì)算機(jī)全自動(dòng)工藝控制）?易使用（可直接調(diào)用編好的工藝程序）?運(yùn)行可靠（所有核心組件均帶有...

試驗(yàn)真空環(huán)境模擬為了考核和研究某些活動(dòng)部件、伸展機(jī)構(gòu)的干摩擦、冷焊性能和研究材料在真空條件下的升華、重量損失、老化等效應(yīng)，需要在更高的真空度和其他空間環(huán)境因素的組合下進(jìn)行試驗(yàn)。大家都知道現(xiàn)在真空系統(tǒng)在各個(gè)行業(yè)的應(yīng)用越來越廣泛，下面我們?yōu)榇蠹医榻B一下現(xiàn)在常用的熱真空系統(tǒng)在熱真空試驗(yàn)設(shè)備中的應(yīng)用吧。熱真空系統(tǒng)應(yīng)用于半導(dǎo)體、集成電路、光電器件的制造工藝過程，是集成電路設(shè)備中的關(guān)鍵設(shè)備之一；它也用于各種其它鍍膜設(shè)備和真空應(yīng)用設(shè)備中。真空系統(tǒng)在熱真空系統(tǒng)中的應(yīng)用熱真空系統(tǒng)是指在真空和一...

兆聲清洗機(jī)不僅保留了超聲波清洗的優(yōu)點(diǎn)，而且克服了超聲波清洗的缺點(diǎn)。兆聲無損清洗機(jī)的工作原理是利用高能（850kHz）頻率效應(yīng)和化學(xué)清洗劑的化學(xué)反應(yīng)對(duì)硅片進(jìn)行清洗。在清洗過程中，換能器發(fā)出的高能聲波波長為1m，頻率為0.8MHZ。在聲波的驅(qū)動(dòng)下，溶液的分子運(yùn)動(dòng)得更快。瞬時(shí)速度可達(dá)30cm/s。因此，無法形成超聲清洗等氣泡。相反，兆聲清洗機(jī)只能用高速的流體波不斷地沖擊晶圓片表面，迫使附著在晶圓片表面的微小污染物顆粒被去除并進(jìn)入清洗溶液中。經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，人們的生活水平不斷提高，對(duì)消費(fèi)...

近些年以來，兆聲清洗機(jī)的發(fā)展非常迅速，無論是在工業(yè)清洗、市政工程清洗，還是民用清洗幾乎隨處可見高壓清洗機(jī)的應(yīng)用。目前高壓清洗機(jī)占各種清洗設(shè)備比例的80%以上。所以，我們在選購高壓清洗機(jī)時(shí)，重要的是根據(jù)使用要求選擇合適的設(shè)備型號(hào)，從而到達(dá)降低成本、減少損失和浪費(fèi)的目的。兆聲清洗機(jī)用于沖洗過濾液壓系統(tǒng)在制造、裝配、使用過程及維護(hù)時(shí)生成或侵入的污染物；也可以適用于對(duì)工作油液的定期維護(hù)過濾，提高清潔度，避免或減少因污染而造成的故障，從而保證液壓系統(tǒng)設(shè)備的高性能、高可靠度和長壽命。清洗...

NANO-MASTER設(shè)計(jì)制造的磁控濺射系統(tǒng)在行業(yè)內(nèi)有*的競爭力，設(shè)備擁有以下突出的優(yōu)勢：1.計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的自動(dòng)上下片，上面和對(duì)準(zhǔn)的過程全部通過計(jì)算機(jī)控制，無需人工操作，并且不會(huì)損傷系統(tǒng)；2.全自動(dòng)膜厚監(jiān)控，客戶可以在軟件設(shè)定目標(biāo)膜厚，整個(gè)工藝階段可以實(shí)現(xiàn)無人值守，無需人工介入，薄膜膜厚具有高度的重復(fù)性；3.出色的膜厚均勻度，對(duì)于6"片范圍內(nèi)，濺射金屬膜時(shí)，可以達(dá)到優(yōu)于+/-1%的均勻度；4.系統(tǒng)可以支持濺射前的等離子預(yù)清洗功能，提供優(yōu)異的膜基層性能；5.系統(tǒng)支持預(yù)濺射，...

說到等離子清洗技術(shù)，目前已經(jīng)廣泛應(yīng)用于很多領(lǐng)域，比如光學(xué)電子或者生物醫(yī)療等很多行業(yè)都會(huì)用到等離子清洗設(shè)備，而等離子清洗設(shè)備的工作原理是利用等離子體來對(duì)物體表面進(jìn)行清洗，清洗效果是常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的，且現(xiàn)在使用等離子清洗設(shè)備的地方越來越多，今天離子清洗機(jī)廠家來說下在使用微波等離子清洗機(jī)時(shí)需要注意什么？一、微波等離子清洗機(jī)可以根據(jù)具體功能細(xì)分為真空等離子清洗機(jī)或者卷對(duì)卷等離子清洗設(shè)備等很多種，因此在使用等離子清洗設(shè)備之前應(yīng)該詳細(xì)閱讀配套的使用說明書，而且很多等離子清洗設(shè)備在使...